沉金采用的是化學(xué)沉積的方法,通過化學(xué)氧化還原反應(yīng)的方法生成一層鍍層,一般厚度較厚,是化學(xué)鎳金金層沉積方法的一種,可以達(dá)到較厚的金層。
沉金厚度一般在0.025-0.1um之間,主要應(yīng)用于電路板表面處理,其導(dǎo)電性強(qiáng),抗氧化性好,壽命長。對于要求較高的板子,平整度要求要好,一般就采用沉金,沉金一般不會出現(xiàn)組裝后的黑墊現(xiàn)象。
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